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等离子刻蚀机/Plasma Etching

  • 适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体活化、刻蚀、清洗,镀膜。
  • 处理时的因热负荷及机械负荷都很低,故也可处理敏感性材料。
  • 典型应用:等离子体清除浮渣、光阻材料剥离、各向异性和各向同性失效分析应用、等离子刻蚀反应、钝化层蚀刻、聚亚酰胺蚀刻等。
设备参数

  • 处理面:直径10.5”不锈钢装载装置,水冷陶瓷绝缘
  • 真空腔:内径15”阳极电镀铝,表面氧化处理
  • 处理均匀性±5%
  • 水冷机:W16”× D36”× H24”
  • 气体箱:W30”× D24”× H12”
外部连接

  • 电源:220V AC  30mA   50/60Hz
  • 压缩空气或氮气:80-100PSI   1/4”快速接头QC
  • 处理气体:15PSI  100sccm  1/4”外螺纹VCR接头
  • 排气:50CFM   KF40快卸紧固法兰
  • 水冷:30-60PSI   3/8”快速接头QC
基本配置

  • 电源配给,RIE
  • 安全互锁装置
  • 通讯接口模块
  • 设备水电气连接系统
  • 控制器
RIE配置

  • 等离子射频电源 RF600W(可选装RF1000W)
  • 气体流量控制:MFC质量流量计×4(1路适用于氯气)
  • 装载配置:真空装载腔真空系统、真空装载腔加热组件
  • 控制系统:电脑控制、标准19”液晶显示屏
  • 真空泵:分子涡轮泵、机械泵(干泵)8cfm-C
  • 真空控制组件、射频电极组件、真空存储腔

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